膜厚基準サンプル製品一覧

　
　 　　　　　　

 

基盤上に膜厚の違う酸化膜を5種類、等ピッチ間隔ラインを3種類成膜したシリコウェハーです。

９６ｎｍ〜６０６ｎｍを配置したタイプと、２２ｎｍ〜８９２ｎｍを配置したタイプの２種類用意いたしました。

また、膜厚値に関しましては測定無・センターのみ測定・マッピング測定の３種類からお選びいただけます。

（当社エリプソメーターＭＡＲＹ−１０２にて測定）

 

型番　

STA-9000-□

STA-6000-□

基盤

シリコンウェハー4inch

膜種

ＳｉＯ2

測定方法

          Ｎ：測定無 　　　　　　
          Ｃ：５種センターのみ測定

          Ｍ：５種100点マッピング測定
※型番の項目で、□内“N・C・M”をご指定ください。

膜厚

22nm：60nm:125nm

206nm:892nm

96nm：110nm:125nm

407nm:606nm

ピッチ

50μ:200μ:400μ

50μ:100μ:500μ

 

配置図

 

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