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ＭＡＣＯ
超小型エリプソメータ（MACO-101）
（弊社製 小型エリプソメータ MARY-102比較）
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＝装置特徴＝
● 超小型･軽量
出来得る限り小型軽量に設計してあります。設置スペースを小さく出来る他、
移設の際にも便利です。
● 再現性
弊社独自の光学素子の採用により、高い測定再現性を実現しています。
● 角度調整
小さいながらも上部にオートコリメーターを装備していますので、傾いたサンプル
も測定可能です。
● 解析力
付属する測定解析プログラムは、弊社ベストセラー機ＭＡＲＹのプログラムをその
まま使用できますので、多種の解析が可能です。
● 高解析力
● 回転位相子法を採用
● 高再現性
● 高速測定
● 豊富なオプション
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| 装置概要： |
エリプソメーターとは、物質表面での光の入反射光の偏光状態の変化を
測定し、薄膜の厚さ、屈折率や吸収係数などの光学定数、或いはバルク
材の光学定数を解析する装置です。
非接触･非破壊にて測定が行えます。
●コラム：いちばん最初に読む「エリプソメータ」 |
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| 特徴： |
MACO-101は、弊社の光計測技術を基に、ベストセラー機となっているエリプソメーターＭＡＲＹ－１０２の技術を元に超小型・低価格・高精度・使い易さを追求して開発されました。
シミュレーション機能等を充実させた研究用ソフトウェアの他に、ルーチン作業に適した工業用ソフトウェアもご選択いただけます。
測定方式に回転位相子法を採用している為、回転検光子法では測定しにくいデルタの領域も位相板の出し入れ無しで高精度に測定でき、ゾーン判定もすばやく行われます。 |
エリプソメータ 装置仕様：
| 仕様 |
Specifications |
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測定方式 |
回転位相子法（RQ法） |
Method |
Rotating
Retarder
Method |
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光源 |
ＬＤ
（λご要望に応じます）
６３５ｎｍ標準 |
Light
Source |
LD：（Upon
request） |
| ビーム径 |
1 mmφ（λにより変化） |
Beam
Dia |
about 1ｍｍφ |
| 入射角 |
固定
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Incident
Angle |
Fixed |
サンプル
ステージ |
２インチサイズ標準
手動Z軸
手動チルト機構付 |
Sample
Stage |
2" standard
Manual Z-axis
Manual tilt
control |
| 測定精度 |
Δ = ± 0.03 °
ψ = ± 0.03
°
@SiO2(1000 Å) / Si |
Accuracy |
Δ=±0.03°
ψ=±0.03°
@SiO2(1000Å)/Si |
| 測定時間 |
最小 0.05 秒 |
Sample
Time |
0.05 sec minimum |
ソフト
ウェア |
研究用・工業用を選択 |
Software |
Choice of
Research
Industrial Control |
| ＰＣ |
IBM-PCまたは互換機 |
ＰＣ |
IBM-PC compatible |
| 寸法 |
220W×125D×115H mm 3kg |
Dimensions |
220W×125D×115Hmm 3kg |
超小型エリプソメータ MACO-101は、弊社の自動エリプソメーターMARYシリーズではオーバースペックなお客様をターゲットに開発された装置です。
光源には半導体レーザーを使用しておりますが、測定部はMARYで定評のある回転位相子法を採用し、測定器としての信頼性はそのまま維持しています。
＞ＭＡＣＯ－１０１ 
＞ＭＡＣＯ－１０１Ｈ（ヘネレーザータイプ）
＞分光エリプソメーターMASS105
＞エリプソメーターMARY
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